觸摸屏清洗超純水設(shè)備對水質(zhì)的要求：

　　新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。設(shè)備采用EDI技術(shù)。

　　EDI(Electrodeionization)是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。它巧妙的將電滲析和離子交換技術(shù)相結(jié)合，利用兩端電極高壓使水中帶電離子移動，并配合離子交換樹脂及選擇性樹脂膜以加速離子移動去除，從而達(dá)到水純化的目的。在EDI除鹽過程中，離子在電場作用下通過離子交換膜被清除。同時，水分子在電場作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子，這些離子對離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)再生，以使離子交換樹脂保持良好狀態(tài)。EDI設(shè)施的除鹽率可以高達(dá)99%以上，如果在EDI之前使用反滲透設(shè)備對水進(jìn)行初步除鹽，再經(jīng)EDI除鹽就可以生產(chǎn)出電阻率高達(dá)成15M .cm以上的超純水。

　　EDI 膜堆是由夾在兩個電極之間一定對數(shù)的單元組成。在每個單元內(nèi)有兩類不同的室：待除鹽的淡水室和收集所除去雜質(zhì)離子的濃水室。淡水室中用混勻的陽、陰離子交換樹脂填滿，這些樹脂位于兩個膜之間：只允許陽離子透過的陽離子交換膜及只允許陰離子透過的陰離子交換膜。

　　樹脂床利用加在室兩端的直流電進(jìn)行連續(xù)地再生，電壓使進(jìn)水中的水分子分解成 H+及 OH-，水中的這些離子受相應(yīng)電極的吸引，穿過陽、陰離子交換樹脂向所對應(yīng)膜的方向遷移，當(dāng)這些離子透過交換膜進(jìn)入濃室后， H +和 OH-結(jié)合成水。這種 H+和 OH-的產(chǎn)生及遷移正是樹脂得以實現(xiàn)連續(xù)再生的機(jī)理。

　　當(dāng)進(jìn)水中的 Na+及 CI-等雜質(zhì)離子吸咐到相應(yīng)的離子交換樹脂上時，這些雜質(zhì)離子就會發(fā)生象普通混床內(nèi)一樣的離子交換反應(yīng)，并相應(yīng)地置換出 H+及 OH-。一旦在離子交換樹脂內(nèi)的雜質(zhì)離子也加入到H+及OH-向交換膜方向的遷移，這些離子將連續(xù)地穿過樹脂直至透過交換膜而進(jìn)入濃水室。這些雜質(zhì)離子由于相鄰隔室交換膜的阻擋作用而不能向?qū)��?yīng)電極的方向進(jìn)一步地遷移，因此雜質(zhì)離子得以集中到濃水室中，然后可將這種含有雜質(zhì)離子的濃水排出膜堆。

　　幾十年來純水的制備是以消耗大量的酸堿為代價的，酸堿在生產(chǎn)、運(yùn)輸、儲存和使用過程中，不可避免地會帶來對環(huán)境的污染，對設(shè)備的腐蝕，對人體可能的傷害以及維修費用的居高不下。

　　我公司生產(chǎn)的二級反滲透+EDI超純水設(shè)備，有多年的實踐經(jīng)驗，尤其在電控系統(tǒng)PLC方面在水處理行業(yè)技術(shù)都是比較成熟，我們也有做過很多各行業(yè)的水處理設(shè)備，這方面我們有豐富的經(jīng)驗。我們公司做出來的設(shè)備質(zhì)量比他們都有優(yōu)勢，在國內(nèi)具有一定的市場竟?fàn)幜�。該產(chǎn)品由于具備性能好、價格低于國外同類產(chǎn)品價格、供貨及時、售后服務(wù)方便快捷等諸多優(yōu)勢。在LED、LCD、光電光學(xué)企業(yè)的脫鹽水和超純水裝置，得到了業(yè)界的廣泛贊譽(yù)，歡迎廣大客戶前來參觀考察。

　　一、觸摸屏清洗用超純水設(shè)備需求要了解幾點內(nèi)容：

　　1、純水的產(chǎn)水量(按每小時計算)

　　2、純水要求的水質(zhì)(例如多少兆歐)

　　3、原水進(jìn)水水質(zhì)是什么水(例如自來水)

　　4、制作純水的工藝(工藝不一樣價格也不一樣)

　　5、用于生產(chǎn)什么產(chǎn)品(例如電池片)

　　6、配置的品牌及控制方式(PLC自動控制，手動控制)型號和數(shù)量等。

　　二、清洗要求：

　　LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。

　　三、EDI工藝：

　　預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點